刘兴钊
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    1989年毕业于武汉大学物理系,1992年从中科院固体物理研究所获硕士学位,1999年在电子科技大学获博士学位。1997年至1998年在德国FZK研究中心开展客座研究。长期从事电子薄膜材料的生长及其应用研究,目前的主要研究方向有:压阻薄膜及集成传感器、介电/宽禁带半导体集成薄膜及场效应晶体管、压电薄膜及薄膜体声波谐振器,在Thin Solid FilmsPhysica CSupercond. Sci. Techn.Jpn. J. Appl. Phys.等杂志发表及合作发表论文60多篇,获国家发明二等奖、省部一等、二等奖各一项(排名第二) 联系电话:028-83200866 

电子邮件:  xzliu@uestc.ed

 

学术经历:     1997-1998,德国FZK研究中心,客座研究人员。 

 

 



  • Education Background
  • Work Experience
1985-9 | 1989-7
  • 武汉大学
  • 应用物理
  • With Certificate of Graduation for Undergraduate Study
  • Bachelor's Degree

1989-9 | 1992-7
  • 中国科学院
  • 凝聚态物理
  • With Certificate of Graduation for Study as Master's Candidates
  • Master's Degree

1995-2 | 1999-9
  • 电子科技大学
  • 材料物理与化学
  • With Certificate of Graduation for Doctorate Study
  • Doctoral Degree

  • Social Affiliations
  • Research Focus
No Content
Personal information

Professor

Gender : Male

Alma Mater : 电子科技大学

Education Level : With Certificate of Graduation for Doctorate Study

Degree : Doctoral Degree

Status : On the job

School/Department : 电子科学与工程学院(示范性微电子学院)

Academic Honor:

新世纪优秀人才计划  

  

Honors and Titles:

  

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