胡文成
个人信息Personal Information
教授 博士生导师
性别:男
毕业院校:电子科技大学
学历:博士研究生毕业
学位:工学博士学位
在职信息:在岗
所在单位:材料与能源学院
学科:材料科学与工程
应用化学
化学工程与技术
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D. Dong, N. Wang, X. Liu, W. Xue, W. Hu. Temperature dependence of the dielectric properties of mesoporous silica films prepared by a sol-gel route in the presence of polyether modified polydimethylsiloxane. Journal of Materials Science: Materials in Electronics, 2011, 22(11): 1667-1673.
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是否译文:否
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下一条:N. Wang, W. Hu, Y. Lu, Y. Deng, X. Wan, Y. Zhang, K. Du, L. Zhang. Role of surfactants in construction of porous copper film by electrodeposition approach. Transactions of the IMF, 2011, 89(5): 261-267.