付永启
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上一条:中国发明专利: 付永启,崔颂雅,游依莎,赵康伊,基于重离子径迹技术的超表面纳米天线阵列的制造方法及应用。授权日期:2020年4月21日(申请号:201810511602.1,授权号:CN108647467B,专利号:ZL201810511602.1)。
下一条:美国发明专利: A plasmonic nanostructure based superlens & its application for online inspection of defects. It was approved on 15 Feb, 2011 (授权号: US Patent No.: US007888663B2).