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中国发明专利: 付永启，崔颂雅，游依莎，赵康伊，基于重离子径迹技术的超表面纳米天线阵列的制造方法及应用。授权日期：2020年4月21日（申请号：201810511602.1，授权号:CN108647467B，专利号：ZL201810511602.1）。

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是否职务专利：否

上一条：中国发明专利：李瑞峰，刘涵，付永启，一种消像差的液体介质超透镜。授权日期：2020年5月12日（申请号：201910450412.8，授权号：CN110244452B，专利号：ZL201910450412.8）。

下一条：中国发明专利: 基于聚焦离子束技术的微光学元件与光纤集成一体化。授权日期：2008年4月20日 (申请号：CN2004100097107；授权号: CN1769934A)。