与Si基IC集成的晶圆级高性能敏感薄膜制备方法研究

点击次数:发布时间:2017-12-07

  • 项目简要备注:国家重点研发计划
  • 项目来源:科技部
  • 项目级别:国家级
  • 项目编号:2017YFB0406401
  • 立项时间:2017-08-01
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科研项目

个人信息

  • 性别:男
  • 职称:研究员
  • 毕业院校:爱荷华州立大学
  • 学历:博士研究生毕业
  • 学位:工学博士学位
  • 所在单位:集成电路科学与工程学院(示范性微电子学院)
  • 学科: 材料科学与工程;
    电子信息材料与元器件

其他联系方式

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